Прикладная физика, no.2, pp.196, 2004 (Peer-Reviewed Journal)
Исследовано влияние легирования редкоземельными элементами (РЗЭ) типа Gd, Ho и Dy
при NREE ≈0—10-1 ат. % на исходную, а также сенсибилизированную
ИК-фоточувствительность в кристаллах слоистого полупроводника n-InSe. Показано, что
зависимость исходной и сенсибилизированной ИК-фоточувствительностей от уровня легирования РЗЭ в изучаемых кристаллах InSe обусловлена зависимостью степени пространственной неоднородности кристалла, энергетической глубины залегания мелких уровней αприлипания и r-центров медленной рекомбинации, а также плотности мелких уровней αприлипания от NREE.